* 金屬基體結構的設計確保陽極電流密度分布更均勻。
* 鉑金鈦陽極導電穩定/導電性較高。
* 鉑鍍層耐腐蝕性較好。
* 鈦結構重量輕，安裝和轉移方便。
* 鉑具有比MMO更高的析氧過電位。
* 鉑金厚度由1-5微米，以2.5微米最適用。
基本金屬：Gr1,Gr2,TA1,TA2
工作電流范圍：＜5000A/㎡
氟離子濃度：＜500mg/L
溫度范圍：＜80℃
涂覆金屬：Pt
貴金屬含量：≥15g/㎡
電極形式：板/管/網/棒
外觀
網狀或片狀，銀白色，有金屬光澤。
技術指標：
1.鉑金層厚度:1um-5um
2.壽命:鍍金槽中壽命三年以上,為國內同行之首.
技術特點:
屬不溶性陽極,鉑鍍層與鈦基低結合牢固,使用性能穩定,可取代純金,純鉑陽極,用于金及其它貴金屬鍍槽中.
使用方法
使用簡單,只需每次放入鍍槽前沖洗干凈,使用完畢沖凈,干燥存放即可.
可適用介質:
海水,氰化金鉀+檸檬酸
應用：
1.珠寶及電子類的貴金屬電鍍。（即裝飾性鍍金、鍍銠、也可用于鍍銅、鎳、鉻電鍍）
2.有機電分解。
鉑金鈦網（白金鈦網）輔助陽極可根據客戶要求而制作.
